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甲酸锡膏

甲酸回流锡膏

Formic Acid Reflow Solder Paste

产品定位

大为甲酸回流锡膏专为甲酸气氛回流(Formic Acid Reflow)及高洁净度焊接工艺开发,通过甲酸还原性气氛促进焊接界面氧化物去除,实现超低残留/近零助焊剂残留、低空洞及高洁净度焊接。产品适用于功率半导体、IGBT、SiC、MOSFET、功率模块、光电器件、传感器、航空航天及高可靠电子封装等对焊后洁净度、空洞率及界面可靠性要求较高的应用,可减少传统助焊剂残留带来的清洗及后续工艺负担。专为甲酸气氛及真空回流工艺开发,通过还原性气氛促进焊接界面氧化物去除,实现超低助焊剂残留、低空洞与高洁净度焊接,适用于IGBT、SiC、MOSFET及功率模块等高可靠半导体封装应用。

核心优势

01|超低残留 / 免清洗
配合甲酸气氛回流工艺,显著降低传统助焊体系带来的焊后有机残留,减少后续清洗需求。

02|超低空洞
针对真空/甲酸回流工艺优化,可实现优异的低空洞焊接表现,具体空洞率依据合金、器件结构及回流条件验证。

03|高洁净焊接
减少助焊剂残留及污染物,有利于功率器件及高可靠封装后续工艺。

04|高可靠连接
良好的润湿及界面结合性能,满足功率半导体及高可靠器件对焊点机械与长期可靠性的要求。

05|简化工艺流程
减少传统助焊剂清洗及相关设备、耗材与制程步骤,提高高洁净封装生产效率。

典型应用

功率半导体|IGBT|SiC|MOSFET|功率模块|功率器件固晶|光电器件|传感器|航空航天|军工电子|高可靠电子封装|Die Attach|Power Module Packaging|Optoelectronic Packaging

粉号 / 粒径

3号粉锡膏(T3):25–45 μm

4号粉锡膏(T4):20–38 μm
5号粉锡膏(T5):15–25 μm
6号粉锡膏(T6):5–15 μm

合金体系

无铅合金|高温合金|低温合金|特殊合金定制


甲酸回流工艺

甲酸气氛导入 → 氧化物还原 → 焊料熔融润湿 → 真空辅助排气 → 冷却形成焊点

Formic Acid Introduction → Oxide Reduction → Solder Melting & Wetting → Vacuum Degassing → Joint Formation

东莞市大为新材料技术有限公司
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